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近日,，集成電路與電子學(xué)院在良鄉(xiāng)校區(qū)開展“同芯創(chuàng)育 追求卓越——與集電大師暢享未來”系列活動(dòng)暨集成電路與電子學(xué)院名譽(yù)院長(zhǎng)聘任儀式。北京理工大學(xué)黨委常委,、副校長(zhǎng)魏一鳴，中國(guó)科學(xué)院院士鄭耀宗出席活動(dòng),。香港大學(xué)黎沛濤教授、張玉君女士,，集成電路與電子學(xué)院負(fù)責(zé)人,、教師代表、學(xué)生代表,，部分書院學(xué)生參加活動(dòng),。活動(dòng)由學(xué)院黨委書記武楠主持,。

王業(yè)亮對(duì)鄭耀宗院士的到來表示熱烈歡迎,，對(duì)其接受邀請(qǐng)擔(dān)任名譽(yù)院長(zhǎng)表示感謝。他介紹了集成電路與電子學(xué)院的發(fā)展情況,，表示未來學(xué)院將在鄭耀宗院士的指導(dǎo)下,，進(jìn)一步加強(qiáng)頂層設(shè)計(jì)和長(zhǎng)期規(guī)劃，努力提升綜合實(shí)力和國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力,，實(shí)現(xiàn)非線性快速發(fā)展。

鄭耀宗院士對(duì)學(xué)校的聘任表示感謝,。他表示,，今后將進(jìn)一步加強(qiáng)與學(xué)校及學(xué)院的交流合作，在人才培養(yǎng),、師資隊(duì)伍建設(shè)和學(xué)術(shù)交流等方面為學(xué)院發(fā)展貢獻(xiàn)力量,。

魏一鳴為鄭耀宗院士頒發(fā)聘書。

魏一鳴對(duì)鄭耀宗院士受聘為北京理工大學(xué)集成電路與電子學(xué)院名譽(yù)院長(zhǎng)表示祝賀,，對(duì)鄭耀宗院士對(duì)北理工人才培養(yǎng)和學(xué)科建設(shè)等方面作出的貢獻(xiàn)表示感謝,。他強(qiáng)調(diào)，學(xué)院要加強(qiáng)一流師資隊(duì)伍建設(shè),，為引進(jìn)高端人才搭建平臺(tái),，把人才隊(duì)伍優(yōu)勢(shì)轉(zhuǎn)化為人才培養(yǎng)和科技創(chuàng)新的勝勢(shì)；要深入落實(shí)協(xié)同育人機(jī)制,，統(tǒng)籌校內(nèi)外優(yōu)質(zhì)資源,，共同推進(jìn)高水平拔尖創(chuàng)新人才培養(yǎng)；要強(qiáng)化基礎(chǔ)研究和前沿布局,，把世界科技前沿同國(guó)家重大戰(zhàn)略需求結(jié)合起來,，為加快建設(shè)世界科技強(qiáng)國(guó)貢獻(xiàn)力量。

鄭耀宗院士為集成電路與電子學(xué)院首屆創(chuàng)芯卓越獎(jiǎng)獲獎(jiǎng)?wù)吲司?、光芯繪影創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)團(tuán)隊(duì)及創(chuàng)芯卓越特別獎(jiǎng)獲獎(jiǎng)?wù)呤窌詣傤C獎(jiǎng),。

王業(yè)亮向史曉剛頒發(fā)企業(yè)博士生導(dǎo)師聘書,。

自由交流環(huán)節(jié)，來自睿信書院,、特立書院,、令聞書院的同學(xué)們結(jié)合自己對(duì)未來學(xué)習(xí)和生活的規(guī)劃，聚焦集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展,、科學(xué)研究與創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)等問題與鄭耀宗院士及學(xué)長(zhǎng)們進(jìn)行了交流,。

王業(yè)亮表示，學(xué)院將以聘任名譽(yù)院長(zhǎng)為契機(jī),，開展更多高水平雙創(chuàng)實(shí)踐活動(dòng),，深化書院學(xué)院協(xié)同育人，進(jìn)一步做好人才培養(yǎng)工作,。要持續(xù)辦好“同芯創(chuàng)育追求卓越——與集電大師暢享未來系列活動(dòng)”,，為學(xué)生創(chuàng)造更多走近大師、走近前沿,、走進(jìn)產(chǎn)業(yè)的機(jī)會(huì),，以更加優(yōu)質(zhì)的資源推進(jìn)高水平拔尖創(chuàng)新人才培養(yǎng)。

此次活動(dòng)是主題教育開展以來,，學(xué)院深入學(xué)習(xí)貫徹習(xí)近平新時(shí)代中國(guó)特色社會(huì)主義思想的重要舉措,。未來，學(xué)院將進(jìn)一步加強(qiáng)頂層規(guī)劃,、科學(xué)布局,，運(yùn)用系統(tǒng)觀念整體推進(jìn)學(xué)科建設(shè)和學(xué)院發(fā)展，加快培養(yǎng)拔尖創(chuàng)新人才和卓越工程師,，以創(chuàng)造“非線性”增長(zhǎng)的勇氣和擔(dān)當(dāng)共創(chuàng)學(xué)校高質(zhì)量建設(shè)發(fā)展新局面,。

附鄭耀宗院士簡(jiǎn)介：

鄭耀宗，1940年2月出生,，中國(guó)科學(xué)院院士,，IEEE Fellow，香港城市大學(xué)原校長(zhǎng),、香港大學(xué)原校長(zhǎng),。國(guó)際著名微電子專家，發(fā)明了硅氧化技術(shù),；國(guó)際上首先提出MOS反型層載流子表面粗糙度散射理論,，推動(dòng)了集成電路深亞微米制程發(fā)展；國(guó)際最早氮化硅研究者之一,，相關(guān)薄膜已經(jīng)成為現(xiàn)代芯片的核心材料,。